Destino de metal de pulverización de alta pureza Titanio Ti target fabricante de personalización de forma especial de China

Símbolo de titanio Ti, número atómico 22, densidad 4,454 g / cm3
  • Artículo No:

    GS-T011
  • Pago:

    L/C、 Western Union、 D/P、 T/T
  • Origen del producto:

    Anhui, China
  • tamaño máximo:

    Customization
  • orientación:

  • paquete:

    100 clean bag,1000 exactly clean bag
  • Detalle del producto

  • Especificación

  • Flujo del proceso

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  • Informe de prueba

  • Preguntas más frecuentes

Material objetivo de titanio, símbolo de titanio Ti, número atómico 22, densidad 4,454 g / cm3, propiedades físicas: punto de fusión 1668 ° C, punto de ebullición 3262 ° C, capacidad calorífica específica 0,52 (J / (kg · K), Calor de evaporación 421 (KJ / Mol), el calor de fusión es 15,45 (KJ / Mol) y la conductividad es 0,0234 (106 / cm). Porque el costo del titanio de alta pureza es bastante caro y el campo de aplicación es extremadamente Limited, se utiliza principalmente como material absorbente en materiales semiconductores y dispositivos de vacío ultraalto.

El titanio de alta pureza tiene propiedades absorbentes, especialmente hidrógeno, CH4, gas Co2, por lo que puede usarse ampliamente en sistemas de vacío alto y ultra alto. Cuando se utiliza pulverización de titanio de alta pureza para hacer una red de línea LSI, VLSI, ULSI, estas piezas integradas pueden volverse extraordinariamente ligeras, delgadas, de tamaño pequeño y densas en circuitos. Los objetivos de titanio de alta pureza también se pueden utilizar como materiales metálicos de barrera. Las siguientes imágenes son dos imágenes típicas de inspección metalográfica microscópica de objetivos de pulverización de titanio, el tamaño medio de las partículas es inferior a 50um.

Siempre que proporcione información detallada del objetivo, como pureza, tamaño, requisitos de tolerancia y otros requisitos técnicos, le proporcionaremos un presupuesto lo antes posible y le proporcionaremos el tiempo de entrega más rápido.

Producimos blancos de pulverización de alta pureza. Su ventaja más importante es que en el proceso de deposición física de vapor, se puede obtener una película delgada con excelente conductividad eléctrica y minimización de partículas. La siguiente tabla es un certificado de análisis de composición del objetivo de pulverización de titanio de alta pureza 4N5. Métodos de análisis utilizados: 1. Utilice GDMS o ICP-OES para analizar elementos metálicos; 2. Utilice LECO para el análisis de elementos de gas.

Q:¿Es usted una empresa comercial o un fabricante?
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