Objetivo de metal de pulverización de alta pureza, objetivo de cobre Cu, fabricante de personalización de forma especial de China

Podemos producir blancos de cobre de diversos requisitos y pureza con una pureza del 99,9% ~ 99,9999%. El contenido de oxígeno puede ser tan bajo como <1 ppm. Se utiliza principalmente para pantallas de visualización y cableado de pantallas táctiles y películas protectoras, capas de absorción de luz solar y semiconductores. Cableado y otras industrias. Además de satisfacer las necesidades de los clientes de objetivos planos (la generación G8.5 más grande), también podemos producir objetivos giratorios de cobre, que se utilizan principalmente en la industria de las pantallas táctiles.

Los granos de cristal de los objetivos de cobre de alta pureza son difíciles de romper. Solo podemos controlar el crecimiento de cristales a través del procesamiento de deformación ultra grande para obtener una microestructura fina y uniforme, que puede garantizar una tasa de erosión más baja durante el recubrimiento por pulverización y reducir la sensibilidad de la formación de partículas durante la pulverización. La siguiente figura muestra dos imágenes típicas de inspección metalográfica microscópica de blancos de pulverización de cobre, con un tamaño de partícula promedio <50um.

Siempre que proporcione información detallada del objetivo, como pureza, tamaño, requisitos de tolerancia y otros requisitos técnicos, le proporcionaremos un presupuesto lo antes posible y le proporcionaremos el tiempo de entrega más rápido.

Las impurezas en el objetivo de pulverización de cobre reducirán la conductividad del material, y los elementos de impureza son el factor principal que afecta el rendimiento en la producción de películas semiconductoras. Las impurezas en forma de titanio, fósforo, calcio, hierro, cromo y selenio son especialmente críticas. Estos metales son muy bajos en nuestros objetivos de cobre y su contenido de impurezas está muy por debajo del valor estándar requerido por los clientes. La siguiente tabla es el certificado de análisis de composición del objetivo de pulverización de cobre de alta pureza 4N. Los métodos de análisis utilizados son: 1. Utilice GDMS o ICP-OES para analizar elementos metálicos; 2. Utilice LECO para el análisis de elementos de gas.