Objetivo de metal de pulverización de alta pureza, objetivo de cobre Cu, fabricante de personalización de forma especial de China

Objetivos de cobre de diversa pureza y requisitos con una pureza del 99,9% ~ 99,9999%.
  • Artículo No:

    GS-T014
  • Pago:

    L/C、 Western Union、 D/P、 T/T
  • Origen del producto:

    Anhui, China
  • tamaño máximo:

    Customization
  • orientación:

  • paquete:

    100 clean bag,1000 exactly clean bag
  • Detalle del producto

  • Especificación

  • Flujo del proceso

  • embalaje

  • Transporte

  • Informe de prueba

  • Preguntas más frecuentes

Podemos producir blancos de cobre de diversos requisitos y pureza con una pureza del 99,9% ~ 99,9999%. El contenido de oxígeno puede ser tan bajo como <1 ppm. Se utiliza principalmente para pantallas de visualización y cableado de pantallas táctiles y películas protectoras, capas de absorción de luz solar y semiconductores. Cableado y otras industrias. Además de satisfacer las necesidades de los clientes de objetivos planos (la generación G8.5 más grande), también podemos producir objetivos giratorios de cobre, que se utilizan principalmente en la industria de las pantallas táctiles.

Los granos de cristal de los objetivos de cobre de alta pureza son difíciles de romper. Solo podemos controlar el crecimiento de cristales a través del procesamiento de deformación ultra grande para obtener una microestructura fina y uniforme, que puede garantizar una tasa de erosión más baja durante el recubrimiento por pulverización y reducir la sensibilidad de la formación de partículas durante la pulverización. La siguiente figura muestra dos imágenes típicas de inspección metalográfica microscópica de blancos de pulverización de cobre, con un tamaño de partícula promedio <50um.

Siempre que proporcione información detallada del objetivo, como pureza, tamaño, requisitos de tolerancia y otros requisitos técnicos, le proporcionaremos un presupuesto lo antes posible y le proporcionaremos el tiempo de entrega más rápido.

Las impurezas en el objetivo de pulverización de cobre reducirán la conductividad del material, y los elementos de impureza son el factor principal que afecta el rendimiento en la producción de películas semiconductoras. Las impurezas en forma de titanio, fósforo, calcio, hierro, cromo y selenio son especialmente críticas. Estos metales son muy bajos en nuestros objetivos de cobre y su contenido de impurezas está muy por debajo del valor estándar requerido por los clientes. La siguiente tabla es el certificado de análisis de composición del objetivo de pulverización de cobre de alta pureza 4N. Los métodos de análisis utilizados son: 1. Utilice GDMS o ICP-OES para analizar elementos metálicos; 2. Utilice LECO para el análisis de elementos de gas.

Q:¿Es usted una empresa comercial o un fabricante?
Somos fábrica.
Q: ¿Cuánto dura su tiempo de entrega?
Generalmente es de 3-5 días si los productos están en stock.
o es de 7 a 10 días si los productos no están en stock, es según la cantidad.
Q: ¿Proporciona muestras? es gratis o extra?
Sí, podemos ofrecer la muestra de forma gratuita, pero no pagamos el costo del flete.
Q: ¿Cuáles son sus condiciones de pago?
Pago <= 5000 USD, 100% por adelantado.
Paymen> = 5000USD, 80% T / T por adelantado, saldo antes del envío.
dejar un mensaje
Si Usted está interesado en nuestros productos y desea saber más detalles, deje un mensaje aquí, le responderemos tan pronto como nosotros .. puedamos.
Productos relacionados
Metal target
Objetivo de pulverización a medida Objetivo de metal Au Bi Hf Ag Mo Ni Sn fabricante de China
Blanco de pulverización Blanco de metal Au Bi Hf Ag Mo Ni Sn
Alloy target
Destino de pulverización de alta pureza por encargo Destino de metal de aleación Al-Cu Co-Fe Fe-Mn Fe-Ni FeCoBSi fabricante de China
Blanco de pulverización Blanco de aleación de metal Al-Cu Co-Fe Fe-Mn Fe-Ni FeCoBSi fabricante
Vanadium target
Destino de pulverización por encargo fabricante de destino de metal vanadio V de China
Material objetivo de vanadio, vanadio: elemento símbolo V, metal gris plateado, pertenece al grupo VB en la tabla periódica
Iron Fe target
Destino de pulverización de alta pureza por encargo fabricante de destino de hierro de metal y hierro de China
El hierro de alta pureza es un material importante para la preparación de soportes de grabación magnéticos.
Cobalt Co target
Destino de pulverización de alta pureza por encargo Metal Cobalt Co fabricante de destino de China
El cobalto es un metal gris plateado brillante con un punto de fusión de 1493 ​​8 C
Molybdenum Mo target
Destino de pulverización de alta pureza por encargo fabricante de destino de molibdeno de metal Mo de China
El molibdeno es un metal de color blanco plateado, el radio atómico del molibdeno es de 0,14 nm.
Niobium Nb target
Destino de pulverización de alta pureza a medida, metal, niobio, Nb, fabricante de destino de China
Material objetivo de niobio, símbolo químico de niobio Nb, número atómico 41
Tantalum Ta target
Destino de pulverización de alta pureza a medida, tantalio de metal Ta, fabricante de destino de China
El símbolo químico de tantalio Ta, metal gris acero, pertenece al grupo VB en la tabla periódica
dejar un mensaje
Si Usted está interesado en nuestros productos y desea saber más detalles, deje un mensaje aquí, le responderemos tan pronto como nosotros .. puedamos.

Casa

Productos

acerca de

contacto